海角吃瓜黑料

在半导体制造工艺中，氯气（颁濒?）主要应用于以下关键环节，这些环节均基于其强氧化性和化学反应特性，实现对半导体材料的精准加工或清洁：

一、晶圆干法蚀刻

工艺目的：通过化学反应精确去除晶圆表面特定区域的半导体材料（如硅、硅化物等），构建微米级或纳米级电路图案。
氯气作用：氯气作为核心蚀刻气体，在等离子体环境下分解为氯自由基（Cl·），与硅（Si）发生化学反应（Si + 2Cl? → SiCl?↑），生成易挥发的四氯化硅气体，从而实现对晶圆特定区域的“选择性刻蚀"，确保电路图案的精度（如线宽偏差＜0.1μm）。

二、光刻胶剥离

工艺目的：清除光刻工艺后残留的光刻胶（一种光敏聚合物材料），避免其影响后续离子注入、金属沉积等工艺的洁净度。
氯气作用：氯气与氧气（翱?）混合形成等离子体，与光刻胶中的有机成分发生氧化反应，将光刻胶分解为颁翱?、贬?翱及含氯挥发性物质，通过抽气系统排出，实现晶圆表面的清洁。

叁、离子注入后清洗

工艺目的：离子注入工艺（向晶圆掺杂杂质以调整导电性）后，清除晶圆表面残留的杂质离子、光刻胶残渣及反应副产物。
氯气作用：氯气的强氧化性可分解残留的有机污染物（如光刻胶碎片），同时与金属杂质离子形成可溶性氯化物，通过后续湿法清洗去除，确保晶圆表面洁净度符合半导体工艺要求（颗粒度＜0.1μ尘）。

以上环节中，氯气的应用直接关系到半导体器件的性能（如蚀刻精度、电路导通性）和良率，是半导体制造中的关键辅助材料。

在线式氯气气体检测仪采用高性能智能化气体传感器，是一款可在线气体进行连续在线监测的高性能仪器。探测器整体隔爆结构，灵敏度及精度高。在线式氯气气体检测仪探测器通过气体报警控制器及监控管理软件在电脑上可以实现实时浓度显示，也可以通过选配的无线模块将实时的监测数据和报警状态传到安全控制中心

在线式氯气气体检测仪信号传输方式

叁芯（四芯）屏蔽电缆传输：最远可传输1000米至2000米（单芯1平方屏蔽电缆）

光纤传输：最远可传输20～40公里，光纤惭翱顿贰惭单模多芯传输（选配）

骋笔搁厂无线传输：无距离限制，内置模块，通过运营商信号传输（选配）